적용사례 Wafer Probe Card
열변형 및 밀림현상 해석
  • 산업군 전자전기
  • 해석타입 열전달해석
    열응력해석
    선형정적해석
  • 사용제품 모듈 NFX Structure
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해석배경

Probe Card는 전자 테스트 시스템과 반도체 웨이퍼 사이의 인터페이스로 인쇄 회로 기판(PCB)과 일부 형태의 접촉 요소로 구성됩니다. Probe Card는 Wafer Prober에 삽입되며, 그 내부에서 ProberWafer 사이에 접촉에 정확하게 이루어지도록 Wafer의 위치를 조정하며 실험을 진행합니다. 이때  Probe Card의 효율은 Probe Card와 Wafer사이의 접촉부를 변형 시킬 수 있는 여러 요인 중 온도로 인한 변형과 이로 웨이퍼의 밀림현상 중점으로 분석합니다.

해석목적

•  Wafer Probe Card의 열변형 평가 및 정밀도 확보
•  Wafer의 밀림현상 해석

해석배경이미지-7 해석배경이미지2
Wafer Probe Card 및 Wafer 이미지


해석모델 및 해석조건

Wafer Probe Card 해석

•  절점온도 : 90℃
•  외기온도 : 20℃
•  자연대류 경계조건 적용
•  하중조건 :
   - 각 Hole에 10g 하중적용
   - 전체 절점에 대하여 각 절점의 온도하중 적용

36. 37.
Wafer Probe Card의 CAD 모델(좌) - FE모델 (우)

Wafer 선형정적해석

38.
해석결과

Wafer Probe Card 열응력/열전달해석

해석결과1-873 해석결과2-73
Wafer Probe Card의 온도분포
해석결과3-5 해석결과4-512
Wafer Probe Card의 응력분포

Wafer 선형정적해석

해석결과5-2 해석결과6
수평변위의 변위 분포(좌) - 응력 분포(우)



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